En cuanto a la escala y el nivel técnico de la construcción de la sala limpia, la brecha entre mi País y países avanzados es aún más grande. Japón Shimizu Construcción Empresa. El área de la habitación limpia bajo contrato de 1982 a 1987 alcanzado 718 Mil metros cuadrados, mientras que el área total de la sala limpia bajo contrato en mi El país es menos 100.000 metros cuadrados. Gran Desarrollo. El área total de habitaciones limpias bajo contrato en 1993 Estaba cerca de 150,000 metros cuadrados. La escala de la construcción de la sala limpia en los Estados Unidos es aún más grande. En 1998, las estadísticas alcanzaron 1.885 Millones de millones de metros. En términos del nivel de Tecnología de ingeniería limpia, a fines de la década de 1980, un gran número de ultra limpio Habitaciones de 0.1 El nivel de micrones había sido construido en el extranjero. en 1987, Sanyo Niigata Fábrica en Japón construyó un décimo nivel de taller limpio de 3000 Los metros cuadrados, y los registros de NIT construyeron cuatro 1000 metros cuadrados. Control de metros 0.1 Micron polvo en a mil niveles Taller, y el número de cambios de aire es tan alta como 300 veces por Minuto. El nuevo US TSMCS Planta en Taiwán ha construido una cuarta generación Conducto Habitación limpia con un área total de 10.000 metros. La sala limpia de 0, 1 micrones de grado 10 usado en mi El país depende principalmente de las importaciones de en el extranjero. Porque El costo de una habitación limpia con un alto nivel de limpieza es muy caro, el costo por Metro cuadrado de A 0.1 La habitación limpia de Micron Class 10 es tan alta como 10,000 dólares estadounidenses. Los talleres limpios ocupan una proporción muy alta de inversión en equipos de fabricación de circuitos integrados a gran escala, que es incompatible con la tendencia de desarrollo de la actualización continua de la tecnología de circuito integrado y ciclos de reemplazo de productos más rápidos y más rápidos, lo que restringe seriamente el desarrollo de la gran escala integrada. Circuito Tecnología. Desarrollo de. El equipo y la tecnología de Submicron producción Microenvironment Sistema utilizando tecnología de aislamiento desarrollada por American Asyst empresa y alemán MW La compañía ha sido ampliamente adoptada en los últimos años. Este La última tecnología limpia adopta un micro-ambiente en el que el equipo de proceso utiliza parcialmente la tecnología de aislamiento en un taller limpio con un nivel de 100 limpieza, lo que reduce la relación de inversión a un micro-ambiente de alto nivel y elimina la fuente de contaminación secundaria causada por la operación del operador y el equipo de proceso, tiene un efecto sobre el rendimiento y la confiabilidad de los circuitos integrados.

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